Z2-FET(Zero Subthreshold Swing and Zero Impact Ionization Field-Effect Transistor)是基于先进FD-SOI(全耗尽绝缘层上硅)技术制造的新型器件,具有零亚阈值摆幅(< 1 mV/decade of current)、零碰撞电离、高开关电流比以及门控迟滞效应,广泛应用于静电放电保护(Electrostatic Discharge Protection, ESD)、高性能单晶体管动态随机存取存储器(One-Transistor Dynamic Random Access Memory, 1T-DRAM)、光电探测器、低亚阈值摆幅逻辑开关、人工脉冲神经元等领域。开发精确的紧凑模型对于新型器件的大规模实际应用或进一步预研至关重要,现有的Z2-FET的模型均由物理公式驱动,开发困难且精度欠佳,随着Z2-FET新型应用研究的进一步深入,这些模型已无法准确地捕捉器件的复杂行为,进而无法为研究提供实质性的帮助。
图1. n型Z2-FET的(a)器件结构,(b)I-V特性和(c)ANN拟合结果;补充ANN(Supplementary ANN,SA)模型的(d)原理示意图,(e)1T-DRAM仿真结果和(f)单个脉冲神经元仿真结果
与传统的建模方法相比,该方法无需深厚的物理知识,开发难度小、周期短、可扩展性强,其数据驱动特性使得模型天然具有较高的精度,模型直流特性的平均拟合误差仅在1%左右。如图1(e)和(f)所示,在1T-DRAM和脉冲神经元电路仿真中,器件TCAD模拟结果和模型SPICE仿真结果表现出高度的一致性。同时,该方法也可以用于实验制造的器件测量数据建模,如图2所示。近日,该研究成果以“A New Compact Z2-FET Model Based on Artificial Neural Network and Its Applications”为题发表于微电子器件领域旗舰期刊IEEE Transactions on Electron Devices。(10.1109/TED.2024.3389929)
图2. (a)p型Z2-FET器件结构,(b)SEM图像,(c)ANN模型与测量数据高度一致
原文链接:https://ieeexplore.ieee.org/document/10508307
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