配置

技术指标

真空获得与测量系统

金属室本底真空进入10-7 Pa；

有机室本底真空优于6.6x 10-5 Pa

膜厚监测仪

各沉积室分别配备一只膜厚监测探头，适时在线监测镀膜厚度

束源及挡板

金属室按三个束源及其挡板布置设计；

有机室按六个束源及其挡板布置设计

样品架及掩膜板库

样品架具有手动升降和电动自转功能：自转可满足不同蒸角下的镀膜，转速5-20转/分；升降可实现调整蒸距的调整和样品交接

样品最大尺寸为100×100