主要研究领域：

1）基于电子束光刻的纳米加工工艺研发和应用研究；

2）纳米压印工艺研究及其应用研究；

3）应用研究包括：新型微纳米电子器件、纳米光子晶体、超材料和超表面的光场调控、新型红外光电探测器、同步辐射X射线光学部件研制和研发、以及各种纳米结构和器件。

特色和优势：

1）纳米加工制备的各个工艺环节（光刻、腐蚀、沉积和检测）整体发展平齐和全面；

2）在最小加工尺寸、高宽比、穿透电子束光刻、3D灰阶电子束光刻和密集纳米图形加工等方面具有独特优势，达到国内领先和国际先进的水平；

3）纳米加工制备应用面广，在生物、药物、物理、化学等及其交叉学科都得到广泛应用。